PHI GENESIS X射線光電子能譜儀 優(yōu)勢特點(diǎn)：

上市時(shí)間：2022年
1、譜學(xué)性能提升

- 使用微聚焦掃描 X 射線源進(jìn)行小面積和大面積分析時(shí)具有更高靈敏度

2、新功能！大面積成像分析

- 掃描X射線影像（SXI）功能增加樣品臺驅(qū)動功能，用于大面積分析導(dǎo)航

- 增加大面積化學(xué)態(tài)影像及疊加分析功能

3、高性能深度剖析

-適用于各種有機(jī)、無機(jī)和混合材料的多種離子槍配置

-先進(jìn)的薄膜結(jié)構(gòu)分析軟件

4、可靠的自動化和遠(yuǎn)程操作

-高度可配置的序列系統(tǒng)，讓分析過程自動化和效率更高

-可*遠(yuǎn)程操作和遠(yuǎn)程診斷

5、更環(huán)保、現(xiàn)代化的配置

- 高效節(jié)能、快速真空獲取和符合人體工程學(xué)的設(shè)計(jì)。

PHI GENESIS X射線光電子能譜儀關(guān)鍵技術(shù)

• 從小面積到大面積的高靈敏度分析。

• excellent的深度剖析表現(xiàn)。

• 自動電荷雙束中和技術(shù)。

• 自動化和遠(yuǎn)程控制，提供靈活的工作環(huán)境。

• 多樣化的配置。

1、微聚焦的掃描X射線源

全新設(shè)計(jì)的高靈敏度和低噪音能量分析器

作為一種重要的表面分析方法，廣泛應(yīng)用于固體材料表面的元素組分和化學(xué)態(tài)的研究，例如電池材料、催化劑、集成電路、半導(dǎo)體、金屬、聚合物、陶瓷和玻璃等，可滿足從研發(fā)到失效分析的廣泛分析需求。

采用了全新設(shè)計(jì)的高靈敏度分析器，靈敏度是上一代的2倍，具有更低的檢測限，能夠?qū)崿F(xiàn)從微區(qū)(<10>1 mm)的高靈敏度化學(xué)態(tài)分析。

微聚焦掃描X射線和 SXI影像，通過類似SEM的SXI影像可以作為樣品導(dǎo)航，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)地定義微區(qū)分析位置。

SXI: 掃描X射線激發(fā)的二次電子影像

2、excellent的深度剖析表現(xiàn)

使用微區(qū)XPS分析技術(shù)進(jìn)行準(zhǔn)確的深度剖析

PHI GENESIS 的高靈敏度微區(qū)分析和高度可重現(xiàn)的中和性能確保了深度分析的excellent性能。樣品傾斜和樣品旋轉(zhuǎn)相結(jié)合，可同時(shí)實(shí)現(xiàn)高深度分辨率和高能量精度。

3、自動電荷雙束中和技術(shù)

無需參數(shù)調(diào)整即可滿足任何絕緣樣品微區(qū)分析的荷電中和需求

PHI GENESIS 配備了自動中和技術(shù)，無需分別對每個待測樣品進(jìn)行中和參數(shù)調(diào)整。自動中和采用低能量電子束和低能量離子束的雙束同時(shí)中和的技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了簡單可靠的高效中和。

該技術(shù)適用于中和各種材料，配合操作軟件所提供的圖像配準(zhǔn)功能，可為微區(qū)分析帶來excellent的自動化操作體驗(yàn)。對于無機(jī)/有機(jī)混合材料以及從微區(qū)到大面積的所有分析尺寸，均可以進(jìn)行可靠且自動化的檢測分析。